3月3日下午四点，在”光学工程高峰高原学科建设”项目的资助下,应我院张大伟教授邀请，澳大利亚斯本威大学甘宗松博士来我院做了题为《超越远场衍射极限的三维纳米光刻 Three-dimensional nanolithography by overcoming the diffraction limit-Simulation, demonstration, application and future development》的学术报告，光电学院约30位师生参加。
甘棕松博士详细的介绍了他目前的研究领域以及所取得的一些研究成果，他说常规的单光束激光加工技术具有优异的三维加工能力，但是因为存在远场光学衍射极限，使得该技术在实际加工中遇到了瓶颈，所以他提出了一种集三维加工能力与高分辨率于一体的新型三维纳米制造技术的思路和方法.甘博士还介绍了纳米光刻在光盘存储方面的巨大应用前景，将超越光学衍射极限应用于大数据存储，与硬盘存储比较，具有巨大的应用潜力和市场空间。
会后，多位师生对甘博士的报告产生了浓厚兴趣，通过现场提问，积极与甘博士进行了学术探讨。
甘棕松博士2004年在天津大学物理系获得学士学位后，在澳大利亚斯威本科技大学获得博士学位，目前在澳大利亚斯威本科技大学微光子学中心从事博士后研究工作。他一直致力于超分辨光学精密制造及超高密度光存储技术的研究工作。首次在全球实现了创纪录的单线9纳米，双线中心间距52纳米的三维光刻，从实验上证实了激光精密制造的分辨率能够突破衍射极限，并具理论上有无限提高分辨率的可能。甘棕松博士近五年以第一作者或通讯作者在Nature Communication, Scientific Report, APL, OE等国际权威期刊共发表学术论文10余篇。 2013年，荣获澳大利亚最具荣誉的青年研究员项目资助(SIEF John Stocker Research Fellow)，从事超高密度光存储在大数据存储中的应用研究。 并在2014年，荣获维多利亚州优秀青年称号。
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