报告题目：双光子光刻及其在三维光子器件中的应用
报告时间：2026年5月8日星期五 4:00pm-5:00pm
报告地点：新光电大楼1026会议室
报告人：王洪涛教授
邀请人：陈建
报告内容：
双光子光刻技术具有高分辨率、三维直接写入和复杂结构可定制等优势，为三维光子器件制造提供了重要方法。报告将介绍我们基于该技术在多类光子结构与器件中的研究进展，包括多焦三维彩色打印、非相干白光下彩色涡旋光束生成、三维打印超表面实现空间焦散调控，以及纳米尺度玻璃光子晶体的制造。通过对三维几何形貌、亚波长结构单元和材料转化过程的协同设计，可实现对颜色、相位、轨道角动量、传播行为和光谱响应等多维光学特性的有效调控。相关工作表明，双光子光刻在复杂光场构建、功能光学集成及高性能三维光子器件制造中具有广阔应用前景。
报告人简介：
王洪涛，男，准聘教授，博士生导师，国家级青年人才。2015年本科毕业于北京理工大学光电学院，2018年硕士毕业于北京理工大学光电学院，2023年毕业于新加坡国立大学电子与计算机工程系和新加坡科技设计大学工程产品开发系，获得联合博士学位。2026年加入北京理工大学光电学院。长期致力于微纳光学与微纳制造的研究，主要研究方向包括：结构光场调控，光信息加密与安全，结构色产生与显示，智能光学成像与探测等方面。已发表学术论文 40 余篇，成果以第一/通讯作者发表于 Nature Nanotechnology、Nature Communications、Science Advances、ACS Nano、Nano Letters等国际知名期刊。研究工作曾被EurekAlert、Nanowerk、《中国光学》以及 Nature Portfolio Community等媒体报道，Google Scholar 引用2000余次。曾获得多项荣誉，包括 2025 年新锐科学家奖、2023-2025 中国光学工程学会微纳制造优秀成果奖(仅20个获奖成果)、2021年0o-Electronic Advances最佳论文奖、2021年MRS-Singapore 最佳海报奖，并入围Nano Letters种子基金奖。此外，他还担任Nano-Micro Letters(Q1)、IJSNM(Q1)、Nanomaterials(Q1)青年编委，Nanomaterials客座编辑，美国光学学会（原OSA，现Optica）“光子超材料”技术组委员等。
